Mya 4是一個(gè)具有四個(gè)反應(yīng)位點(diǎn)的自動(dòng)化工作站，為您的實(shí)驗(yàn)提供安全精確地加熱、實(shí)時(shí)冷卻、軟件控制和數(shù)據(jù)記錄功能，可用于進(jìn)行24小時(shí)/7天無人值守的實(shí)驗(yàn)。

產(chǎn)品詳情

一臺(tái)具備4個(gè)操作位點(diǎn)、提供安全、準(zhǔn)確地加熱、實(shí)時(shí)冷卻、軟件控制和數(shù)據(jù)記錄的24小時(shí)/7天無人值守的自動(dòng)化化學(xué)儀器。

一臺(tái)儀器，無限可能

4個(gè)單獨(dú)操作位點(diǎn)	磁力&機(jī)械攪拌	2ml~400ml

兼具加熱、冷卻功能每個(gè)位點(diǎn)可以單獨(dú)操作	標(biāo)配磁力攪拌功能可選配強(qiáng)勁的Mya頂置式機(jī)械攪拌器	兼容**的反應(yīng)瓶樣式和體積

自動(dòng)化&數(shù)據(jù)記錄	-30~180℃	控制第3方設(shè)備

軟件控制進(jìn)行24小時(shí)/7天無人值守的化學(xué)實(shí)驗(yàn)	模塊控溫、樣品控溫相鄰位點(diǎn)間溫差可達(dá)200℃	電腦版軟件可控制：注射泵、蠕動(dòng)泵、 pH計(jì)、真空泵等多種第3方設(shè)備

靈活多用

更安全、更清潔、更環(huán)保、更高效

4個(gè)單獨(dú)操作位點(diǎn)，標(biāo)配加熱、實(shí)時(shí)冷卻功能

緊湊型設(shè)計(jì)，適用于多種實(shí)驗(yàn)應(yīng)用

兼容多種多樣尺寸和形狀的反應(yīng)容器

程序化控制您的實(shí)驗(yàn)，實(shí)時(shí)自動(dòng)記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)

準(zhǔn)確地溫度控制

磁力攪拌，機(jī)械攪拌

取代低效、雜亂和不安全的油浴、干冰浴

更加節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間

兼容第3方設(shè)備：天平、泵和pH計(jì)等

軟件控制，提高安全性，減少人為錯(cuò)誤

24小時(shí)/7天無人值守運(yùn)行，提高效率

主要特點(diǎn)

歧管型或回流型機(jī)頭

水冷式
內(nèi)置氣體回路，可用于填充惰性氣體
歧管型機(jī)頭：
將冷卻水分配至每個(gè)單獨(dú)的冷凝管
標(biāo)配截止閥，防止倒流
回流型機(jī)頭：
直接對(duì)回流管內(nèi)的蒸汽進(jìn)行冷凝
無需外接冷凝管，便于使用

磁力攪拌或機(jī)械攪拌

標(biāo)配磁力攪拌功能：100~1000rpm
可選配Mya頂置式機(jī)械攪拌器
強(qiáng)勁地?cái)嚢?/span>
轉(zhuǎn)速范圍：100~1000rpm
無需工具即可安裝
每個(gè)位點(diǎn)的轉(zhuǎn)速單獨(dú)控制
相鄰位點(diǎn)可分別使用磁力攪拌或機(jī)械攪拌，互不影響

可選多種多樣尺寸和形狀的反應(yīng)容器

從2ml~400ml，樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過程釜體

樣品瓶和試管：2ml~20ml
圓底燒瓶：25~250ml
過程釜體：50~400ml
多口釜蓋：3口或5口
其他配件

Mya 4控制選項(xiàng)

24小時(shí)/7天無人值守地進(jìn)行您的實(shí)驗(yàn)，可選的操作系統(tǒng)：

觸摸控制面板：儀器標(biāo)配
可選的PC控制軟件：用于控制第3方設(shè)備

根據(jù)您的需求配置Mya 4

您可以靈活地配置Mya 4的各類配件，用以適配您的各類實(shí)驗(yàn)

選擇歧管型或回流型機(jī)頭，或者不使用機(jī)頭
選擇反應(yīng)容器的形狀和尺寸
選擇跟反應(yīng)容器適配的插件
選擇多口釜蓋或者回流管
選擇頂置式機(jī)械攪拌器、攪拌槳或者磁力攪拌子
選擇其他配件（溫度探針、玻璃配件等）
選擇PC控制軟件

工藝套裝

小試套裝

其他配置

配置：歧管式機(jī)頭

過程釜體

配置：回流式機(jī)頭

圓底燒瓶

配置：

樣品瓶和試管

靈活多用，適用于從小試研發(fā)到工藝開發(fā)的眾多實(shí)驗(yàn)應(yīng)用

工藝開發(fā)
DOE實(shí)驗(yàn)
實(shí)驗(yàn)放大
結(jié)晶研究
晶型篩選

先導(dǎo)物研究
平行實(shí)驗(yàn)
實(shí)驗(yàn)優(yōu)化
溶劑、催化劑篩選
路線研究

小結(jié)
4個(gè)單獨(dú)操作位點(diǎn)	——可同時(shí)使用1,2,3或4個(gè)位點(diǎn) ——平行操作4個(gè)位點(diǎn)，或由多個(gè)使用者分別單獨(dú)操
準(zhǔn)確地溫度控制	——溫度控制范圍：-30~180℃ ——相鄰位點(diǎn)間溫差可達(dá)200℃ ——每個(gè)位點(diǎn)的溫度單獨(dú)控制 ——可選擇控制模塊溫度或樣品溫度
使用自來水或冷水機(jī)	——Mya 4使用先進(jìn)的半導(dǎo)體制冷技術(shù)，可快速制冷至-30℃ ——半導(dǎo)體芯片需要自來水或冷水機(jī)來帶走熱端熱量，以持續(xù)制冷冷卻源自來水（15℃）冷水機(jī)（5℃） *模塊溫度 -25℃ -35℃ *樣品溫度 -20℃ -25℃
磁力攪拌或機(jī)械攪拌	——標(biāo)配磁力攪拌功能，轉(zhuǎn)速范圍：100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機(jī)械攪拌器，轉(zhuǎn)速范圍：100~1000rpm ——每個(gè)位點(diǎn)的轉(zhuǎn)速單獨(dú)控制 ——相鄰位點(diǎn)可分別使用磁力攪拌或機(jī)械攪拌，互不影響

Mya 4自動(dòng)化反應(yīng)工作站